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型號:
PJMRY-30T型晶片及薄膜轉(zhuǎn)移真空熱壓機(jī)

描述:PJMRY-30T型晶片及薄膜轉(zhuǎn)移真空熱壓機(jī)是一款電動真空平板式真空熱壓機(jī),應(yīng)用于晶片的焊接或薄膜轉(zhuǎn)移處理,真空度可以達(dá)到 10-2 torr兩個(gè)精密的溫控系統(tǒng)可設(shè)置 30 段升降溫程序,控溫精度為±1℃ ,500度恒溫時(shí)的溫度波動±10℃ , ,分別獨(dú)立控制兩個(gè)加熱平臺。其可處理最大樣品尺寸為 300mm x 300mm 。是材料成型和科研的重壓設(shè)備。

  • 廠商性質(zhì)

    生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間

    2024-10-22
  • 訪問量

    212
詳細(xì)介紹
品牌其他品牌產(chǎn)地類別國產(chǎn)
應(yīng)用領(lǐng)域能源,電子,航天,綜合

PJMRY-30T型晶片及薄膜轉(zhuǎn)移真空熱壓機(jī)

關(guān)鍵詞:真空,熱壓機(jī),溫度500℃,

PJMRY-30T型晶片及薄膜轉(zhuǎn)移真空熱壓機(jī)

PJMRY-30T型晶片及薄膜轉(zhuǎn)移真空熱壓機(jī)是一款電動真空平板式真空熱壓機(jī),應(yīng)用于晶片的焊接或薄膜轉(zhuǎn)移處理,真空度可以達(dá)到 10-2 torr兩個(gè)精密的溫控系統(tǒng)可設(shè)置 30 段升降溫程序,控溫精度為±1℃ ,500度恒溫時(shí)的溫度波動±10℃ , ,分別獨(dú)立控制兩個(gè)加熱平臺。其可處理最大樣品尺寸為 300mm x 300mm 。是材料成型和科研的重壓設(shè)備。

主要技術(shù)參數(shù):

1. 加熱臺尺寸:300mm x 300mm

2. 溫度:30段升溫程序控溫

3. 最高溫度:500℃

4. 最大壓力:30T

5. 熱壓對象:晶片的焊接或薄膜轉(zhuǎn)移

6. 放入樣品最大尺寸:長*寬*高=300*300*30mm

7. 壓力控制系統(tǒng)配置電動油壓機(jī):油缸直徑為 Φ 110 mm; 油缸行程為 40 mm;

在自動加壓模式下,帶自動恒壓功能,恒壓精度: ±500N  (±50kg)。

壓力顯示范圍:100-30000Kg

壓力控制范圍:100-30000Kg

8. 恒壓時(shí)間設(shè)定范圍:1-9999min

9. 冷卻方式:水冷

真空度:抽氣速率:4L/S電機(jī)功率:400W    · 極限壓強(qiáng) 6X10-2Pa ·F-100/110 分子泵:

· 抽氣速率:100L/S  極限壓強(qiáng):6X10-6Pa · 啟動時(shí)間:<2min

· 額定轉(zhuǎn)速:4300 轉(zhuǎn)/分 · 冷卻方式:風(fēng)冷/水冷 ·分子泵控制電源:

電壓:200~240V; · 輸出功率:250W   · 加速時(shí)間:3 分鐘

10. 外形尺寸:700mm(L) x800mm(W) x1640mm(H)

11. 重量: 510Kg


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